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電子學(止) 1-4 基本波形 PW PWTSW100% v - jm. for 二、交流AC:正負極性會改變st st 正弦波 VP -Vp 10° 峰值 峰峰值V-P7 VP (80 1360 VPF週期T 脈波 PN:前缘→後缘所需時間 SW: 脈波間隔時間 Vp:振幅 PRT:PRT:PW+SW PRR:每秒脈波权,(2). t 公式: V(t)=Vpsin(2元ft+日)=Vpsin(wt+日) Vp-p ->Vp ④有效值: Vrms Vp=0.77Vp Vp=Vrms = 1.414Vrms ⑤平均值:Vav=Vp=0.636Vp=0.9Vrms VCt)个前缘 後像 Vp duty cycle 工作週期: 脈波寬度與週期比值 二方波:Vp=Vrms=Vav 2-1本質半導体 10 公式: 工作週期 PW SW t = PRT *100%= PRT D 10 導体:導电良好X銅、銀... ② e 6000 e 绝缘体:不导电陶瓷,母 原子核:質子&中子③组成 原子:保有元素特性の最小粒子 半導体:介於導体&泡体之間&矽鍺ee ① e ①- 好 电子:於原子核外圍 矽原子 E 常見的半导体材料写矽(Si),鍺(Ge). * 離原子核越遠的电子具有越高能量 电子軌道:K,L,M,N,O,PG,可容納最大电子权2hr 电 通道 KLMLOPG 四債元素: 最大子权 28 矽 28 18 32 50 72 98 4 74 鍺 8 2 118 4 (D Double A
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电子學(上) 2-1本質半導体 3 tit 3 绝对零度(-273℃)→绝缘体 不含其他雜質的純半导体→本質半单体(intrinsic semiconductor) 最外層8個电子の穩定狀態→共價鍵(covalent) E 6 +4 +4 电子吸收熱能而獲得足夠能量(s://电子伏特 Ge:0.72电子伏特) “脫離成為自由电子 +46 € 共價建结構 自由电子可在材料中自由移动,不受束缚,與电洞成对(pair)出現→电子电洞对(electron-hole pair) 溫度个电子一电洞对个,導電性电阻值,具溫度特性 #ev→ 能量單位,丁,lev=1.6x10-19] 电子移动 电子流(electorn current) 电洞移动 电波流(hole current) e 2-2 N型半导体與P型半導体 本質半導体只由熱能產生→導电能力不佳 為了使半导体傳導較大电流,加入少权三,五價元素 6摻入雜質の过程→摻雜(doping) > 加入之元素→雜質(impurity) ↓含有雜質的半导体→外質半导体(extrinsic semiconductor) N型半导体 摻入五價元素x磷(P),(AS)銻(Sb),(BI) 多出一個自由电子/五價雜質元素 →施体(nor) N型較多自由电子, 帶电中性 多权載子自由电子 少权載子:电洞 P型半导体 摻入三價元素硼(B),銦(2n),鎵(Ga) 缺少一個电子產生电洞(空位)/三價雜質元素→受体(acceptor) P型較多电洞,带电中性 多权載子电洞 少权载2:自由電子 N型 P型 e € 44 +3 +4 e (D E ① ① ① Double A
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电子学(上) 2-6二極体等效电路 .理想的二極体模型(ideal diade model) 二極體有單向導电特性,只允许电流单方向,順 IF 順:VF=0 ↓等效 VR. VF 通 逆:IR=0_ 逆:截止(cut-off)- 1.順 (ON) 理想二極體VE=0 Vont=E-VF=E_0=E 2.逆(OFF) 理想二極體JR=0 Vout=IRxR=0x1R=0. 2R JR=0 順5 T 2 = Vunt VR:E-Vout=E-O-E VR-ER Vont=O R R VFO Vene-E 1 二、二極體的定值电压降模型cconstant voltage -drop madel) 二極體順向導电時,兩端有一Vk (鍺0.3V,矽0.7V) IF Vezvk ↓等效 Vp 1.順 (ON) VE 2.逆(OFF) IR=O VK VFIVk Vont E-VF 同上 IR 2 = Vent IF 三、三極體的完整模型(complete diode model) 多了切入VC&动態rd, rd= AVF V₂-VC V₂-Vc VR Ve Va VE DIE 2-0 I EV J OVE ↓等效*16:0F Verd ↓ 斜率 → 基本上加入一顆R,剩下同上 VIR Double A.
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电子學(上) 2-3PN接面二極体 P.N型半導体單獨使用時=电阻器 肉肉串 外投 把PN型摻雜,PAN之間形成PN接面(PNjunction) PN接面二極体( (PNjunction. =1517 (diode) → 具單向導电特性 dide) :裡面正離子排斥电洞,負離子排斥自由电子→平衡狀態擴散作用停止 空乏區(depletion region):靠接面N型失去自由→正離子,反之. 障壁电位(barrier potential): 730.6~0.7V鍺→0.2~0.3V e @ PN接面 (P) (N) ① ①① (P) (N) 空乏区 障壁电位 IF 空乏区(寬度) 2-4二極体的偏压(bias) 一、順向偏压(forward bias):正極→P,負極→N P 空乏区縮小,外加E>障壁电位→自由电子越过PN接面往左移动. 順向电流(forward current)→IF 000 T E. 二.逆向偏压(reverse bias): 負極→P,正極→N 空乏区变寬,由少权栽子產生,不导电,截止 (cut-off) 6- M (P) (N) 三飽和電流(saturation current,Is),漏电流(leakage current) 由熱產生の少权载子,溫度飽和电流M 四崩潰电压(breakdown voltage):造成大量逆向电流,燒燬 五、二连体电路符号(dicle symbol) P→陽極(ancde,A) 30 30 30 G 空乏区(控大) 結構 电路符号 宽体 A N→ 陰極(cathode,K) P N k Double A
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电子學 (上) 2-5二極體的电压、电流特性曲線 一、順向偏压下的电压电流特性曲線(V-I Characteristic Curve) 1.順向电压VE<切入电压 Vecutin voltage) 43約0.6V 鍺0.2V - 1視开路 +L ET 0 2. VFVC 个 c. VE (2)动態阻抗(dynamic resistance) rs=ZIF(斜率) CD膝点电压(knee voltage. Vk) 矽0.7v鍺C.3V 二、逆向偏压下的电压、电流特性曲線 2. 1. 逆向电压VR=0,没有逆向电流,IR=C O <逆向V<崩潰电压(BR) →會產生逆向飽和电流(IS) DIF ↓ 切入点 Ve Vie ← -膝点 AJE TO VE 0 AVE AVE IF小,ra= IFK, rd= AIF (崩潰电压 VBR 0 7 Is C C C C C C C C C C O Q OOOOOO SIF VE 小 三、完整的电压电流特性曲線 貨車 IF(顺向2) IR 順向偏压 四、溫度对二極的影響 (逆向崩潰V) 順: VR VBR VF 矽二極体,溫度1℃,Ve↓2.5mV,係权-2.5mV/c 逆向偏压 (逆向) VK (膝点V) (順向V) 鍺一框体,溫度↑℃, Ve↓ ImV,係权-1mV/c IR(逆向工) 逆 溫度↑10℃,二極体逆向飽和I X2 to 15 (12) = IS(T₁) * 2 1 T-T₁ IS(T2)=IS(T1)×202 Double A
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[高職基本電學 ]求解題過程 謝謝🙏
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