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英語 高校生

この速読英単語?Reading Flash?の06の答え持ってる人いませんか?

Reading Flash 速読に必要な読み方 [大量の英文をすばやく処理する力」 が近年ますます求められるようになっていま すが, その作業が昔手な生徒が多いようです。事実, 多くの生徒が英語の試験を受 けた後に「時間が足りなかった」 と後悔しています。なぜ時間が足りなくなるので しょうか。 その要因の 1 つは, 英文を読んで答えを導き出すのが遅く, 必要以上に 時間をかけすぎているためです。 制限時間内に終をるには, 英文を速く読んで設問 を迅速に処理して解答を導き出すことが大切です。 しかし, 速読しても正答率が低 くでは本末転倒です。ではどのようにすれば速読と高い正答率を両立できるのでしょ うか。ポイントは次の 3 点です。 (① アクセルとブレーキ ) ここで言う 「アクセルを踏む」 とは「英文を速く読み進めること]」 で.「ブレーキ をかける」 とは 「英文を丁寧に精読すること]」 です。ただやみくもに「加速]する のではなく, [加速] と「減速] のバランスをうまくとり, 時間内に英文を処理する のです。では, どこで「アクセル」 を踏んでどこで「ブレーキ」 をかけるのかですが, これはとてるも科単です。大原則は「設問に関係するとことろはブレーキ」 です。設問 に関係するところは丁寧に精読し, 正しい答えを導く必要がありますが, それ以外 は内容 (概要) をおさえながら加速してよどみなく速読します。では, 「設問に関係 するところ| はどうやって見つけるのでしょうか。 それは, 次のポイントで説明し 店しかがめ方 (2) スキャニングとスキミング ) 7アクセル」と「ブレーキ」をうまく使いこなすには[スキャニング」 と「スキミング」 |という技術が欠かせません。スキャニングとは本文中から特定の情報を探す技術で 間の解答根拠を見つける際に使用します。スキャニングを行う際は設問や選択股 1 られている特徴的な単語や表現に印をつけ, それをヒントに本文に戻ります。 設問に[Im 1930, .…] という表現があれば, 本文中から 1930 という数字を という具合です。 次に, スキミングとは本文の要点をすくい取りながら読 る技術で, 細かい内容にこだわり過ぎず, 本文のどこに何が書いてあったか ぶら読み進める技術です。スキミングは見出し, 小見出しが大きなヒン スキミングで本文の内容を大まかにおさえ, スキャニングで解答の とで, 速読と高い正答率を両立できるようになります。

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英語 高校生

答え合わせお願いします🙏

US | 必須問題 (2) 人 ( ) に入る遺なものを選びなさい、 1) When the teacher ( ) the room、all the pupils stood up. Dcame ⑧ arrived ③) appeared ④ entered ②) What( )todrink? ①are you Hikinsg (do you hope ③ would you hope ④ would you ike 3) 1am sure you will feelbetterif( ) agood night's sleep. ① gettng ⑧) you are going to get ③ you get ④ you got 3) The movie was territic、You ( ) have come with me. ① should ② shouldnt ③ would ④ wouldmt E還6) Youshouldkeepthedoor( )atalltmes. ① jock る locked ③ locking ⑥o lock (6) Mr. and Mrs. Smith ( ) for 30 years now. ① have been married ⑧) are married ③ have been marrying ④) are marrying ⑦)・tlooked for something( )inthe fridge. (①tocolddrink ②todrinkcold ③cold drink ④ cold to drink (8) By the next time you Visit my town, the new soccerstadium( ). ① had been completed (@ has been completed ③ was completed ④③ will have been completed 9) IfIwereyou,I( ) Histen to him. ① am not going to ② shall not (⑧wont ④ wouldnt 0 My sister doesntlike chocolateandIdont( ). ① either (@ like ③ prefer ④ too ⑪| Youruniversity is muchbiggerthan( ). !③ mine ② my ③ our ④ we 12 ( ) he was tired, he continued working. ① Although ② Because ⑥ However ④Inspite of 正斉指摘 9 計っている(または不要な) 箇所を選びなさい。 ②Track 07-0 (大要女子2 (京都産業大・ (思州女子 (中 (金城学 (長崎総合 (北星* (cd (大東文化 (京都肉央 @T (1) The Great Buddha of Nara is ①OVer 14 meters ghigh and ふ weigh about about 250 tons、 (

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化学 高校生

RHEED法の原理と得られる7つの情報が、この英文に書かれているみたいなのですが、よく分かりません。 分かる方助けてください!🙇‍♂️

INTRODUCTION Reection high-energy electron diHiraction (RHEED) uses a Rnely collimated electron beam with energy of 10-100 keV. The beam irradiates a sample surface with gazing incidence to obtain forward scattered difraction patterms. RHEED enables us to analyze structures of crystal surfaces at atomic levels and also to in situ monitor growth processes of thin films (mo、1988: Ichimiya and Cohen、2004: Peng et al.. 2011). From the arrangement。intensity and profile of the dilraction spots in RHEED patterns as described below in detail、 one can obtain various kinds of information: (1) the periodicity (unit cells) in atomic arrangements. (2) flat- ness of surfaces. (3) sizes of grains/domains of surface structures and microcrystals grown on the surface. (3) epitaxial relation between the grown flms/islands with respect to the substrate. (5) parameters character- izing structural phase transitions. (6) individual atomic positions in the unit cells. and (7) growth styles of thin films and numbers of atomic layers grown. The most important advantages of the method are that it is quite easy to install the RHEED apparatus in Yarious types of vacuum chambers without interfering with other components of apparatuses and to do real- time monitoring during thin-Rlm growths. Because of these advantages.RHEED is nowwidelyusednotonlyin research Iabs of surfaces and thin fims. but also in device production processes in industry Low-energy electron diiraction (LEED、see article Low-ENNERcy ErecroN DirscmoN)。 in which an electron beam of 10-100 eV in energy is irradiated onto a sample surface with nearly normal incidence to obtain back- scattered difraction patterns. is also widely used to analyze the atomic structures of crystal surfaces. Since one has to make the sample face directly to the LEED

未解決 回答数: 1