Grade

Subject

Type of questions

Chemistry Senior High

問3でnoがnAとnBになるのにno=nA+nBにならない理由を教えて下さい。 答えは理解できたんですが分かりません

UE 定数と 酸化三塗素 Ox (無色の 体) を生じる反応は, 次のような 胡 して二酸化室素 NOz (Wo ま) が分 の であるs 」 可逆反応 = ZNO …① ッ 2還 tko をが tno) とり, 一容 了(L) のガラス和容器に洒寺し Ao 平衡に達し そのと きの圧力は 7 〔BEaj であっ> ぞれzx imol)。zm (moi) 計 謀 7 UK に保ったところ・ 量はそれ また, このときのNzOx NOz の物質 3 と た。 和人数を(ParL/(K moD) 4 可聞反応①の平衡定数を7w 。。 および レで表せ。またたのWW る書け。 5 間2 この平衡状態でのNe0x NO。 の分圧をそれぞれ がA (PaJ, が (Pa) > じで 間1における平衡定数を かw p を含む式で表せ。 間3 NOzの物質是7m を 7。 および で表せ< : We がー。 >おぉくと. @は①の反応においで何を表しでいるか。 を の しの の内容を簡潔に書け。 癌5 党をで表せ。また, NOx NOz の分圧 の、 と 7s を P とので表せ。 問6 上記の状態(平衡定数人) から温度をさらに上げると請ガラス容品 MM Me の 次の⑦, (に答えょ。 ed , "は下記のどれか。 (3から (⑳) アッ>た (5) 婦= (ec) 災く着 IOから NO:が生成するときの友応衝をのz放 0は下記のと 9ー()から1つ選び 記号で示せ 6 9 の0 (0 0=0証5議 2

Waiting for Answers Answers: 0
Chemistry Senior High

RHEED法の原理と得られる7つの情報が、この英文に書かれているみたいなのですが、よく分かりません。 分かる方助けてください!🙇‍♂️

INTRODUCTION Reection high-energy electron diHiraction (RHEED) uses a Rnely collimated electron beam with energy of 10-100 keV. The beam irradiates a sample surface with gazing incidence to obtain forward scattered difraction patterms. RHEED enables us to analyze structures of crystal surfaces at atomic levels and also to in situ monitor growth processes of thin films (mo、1988: Ichimiya and Cohen、2004: Peng et al.. 2011). From the arrangement。intensity and profile of the dilraction spots in RHEED patterns as described below in detail、 one can obtain various kinds of information: (1) the periodicity (unit cells) in atomic arrangements. (2) flat- ness of surfaces. (3) sizes of grains/domains of surface structures and microcrystals grown on the surface. (3) epitaxial relation between the grown flms/islands with respect to the substrate. (5) parameters character- izing structural phase transitions. (6) individual atomic positions in the unit cells. and (7) growth styles of thin films and numbers of atomic layers grown. The most important advantages of the method are that it is quite easy to install the RHEED apparatus in Yarious types of vacuum chambers without interfering with other components of apparatuses and to do real- time monitoring during thin-Rlm growths. Because of these advantages.RHEED is nowwidelyusednotonlyin research Iabs of surfaces and thin fims. but also in device production processes in industry Low-energy electron diiraction (LEED、see article Low-ENNERcy ErecroN DirscmoN)。 in which an electron beam of 10-100 eV in energy is irradiated onto a sample surface with nearly normal incidence to obtain back- scattered difraction patterns. is also widely used to analyze the atomic structures of crystal surfaces. Since one has to make the sample face directly to the LEED

Waiting Answers: 1