(2)、(3)が分からず復習しようにも途中式がないのでどなたか教えていただけないでしょうか？

30 35 規題 15 図のような装置を組みたて, 直流電流を流して電気分解を行った。 この | とき電解槽Bから発生した気体をすべて捕集したところ標準状態で 0.84Lであった。 (1) 電解槽Aの陽極付近の pH は 大きくなるか, 小さくなるか。 (2) 回路に流れた電子は何mol か。 (3) 電解槽Aの陰極で生成した 金属の質量を求めよ。 [3) 168 「(1) 小さくなる (2) 0.050mol Pt Pt CuSO4水溶液 電解槽 A A Pt Pt NaOH水溶液 電解槽 B ******

(2)、(3)が分からず復習しようにも途中式がないのでどなたか教えていただけないでしょうか？

30 35 類題 15 図のような装置を組みたて, 直流電流を流して電気分解を行った。 この とき電解槽Bから発生した気体をすべて捕集したところ標準状態で 0.84Lであった。 (1)電解槽 A の陽極付近の pH は LV 大きくなるか、小さくなるか。 回路に流れた電子は何mol か。 (3) 電解槽Aの陰極で生成した 金属の質量を求めよ。 (2) 「(1) 小さくなる (2) 0.050mol (3) 1.6g Pt Pt CuSO4水溶液 電解槽 A Pt Pt NaOH水溶液 電解槽 B

【英語】【教科書の内容です。】 このitsは、何を指していますか？沖縄ですか？

5 of Okinawa. During the time of the Ryukyu Kingdom, several その問 languages_wefpoken in the Okinawa islands. Uchinaaguchi was one of them. However, after the kingdom turned into Okinawa Prefecture, Japanese became its -3たン 10 official language. Today, Uchihaaguchi is spoken mostiy C among old people. In 2009, UNESCO®designated'Uchinaaguchi an endangered language. Since that time, more and more people have been worrying about the death of Uchinaaguchi. G havetbeent ing e ずっとんしている こ

問8どうやって解きますか！答え5です！

https://www.hokuriku-u.ac.jp/admission/pastexam/doc/hu_exam_2019.pdf 【I】 以下の問いに答えよ。 問7 物質の三態と熱運動に関する記述 (a~e) について, 正しいものの組合せはどれか。 a) 物質の状態は, 構成粒子の熱運動と粒子間の引力カの大小関係によって決まる。 b) 0℃において, 構成粒子は固体中でも必ず熱運動をしている。 c)液体を冷却して凝固点に達すると, 冷却し続けて全て固体になった後も, それより温度 は下がらない。 d) 固体が液体を経ずに気体になる場合はあるが, 気体が液体を経ずに固体になる場合は ない。 e)物質の温度に上限はあるが, 下限はない。 ④ (b, d) ③ (d, e) ③ (a, d) の(a, b) ⑤ (b, e) ② (a, c) ⑥ (c, d) の(c, e) 問8 ある金属元素 Mの酸化物中に Mが質量として70%含まれていた。この酸化物を組成式で 表したものはどれか。 ただし, 原子量はO=16, M=56 とする。 の MO ② MO2 ③ MO3 の M2O 6 M2O3 ⑥ M2O5 問9 質量パーセント濃度 28.0%の濃アンモニア水 (密度 0.900 g/cm°)を用いて, 5.00 mol/L アンモニア水400 mL を調製したい。必要な濃アンモニア水の体積 (mL)はいくらか。最も 適当なものを選べ。 ただし, 原子量は H=1.0, N=14.0 とする。 の 67 2 80 ③ 112 ④ 122 6 135 問 10 0.10 mol/L 水酸化ナトリウム水溶液 150mL と, 0.20 mol/L 水酸化ナトリウム水溶液 250 mL を混合し, 水を加えて全量を500 mL にした。調製後における水酸化ナトリウム 水溶液のモル濃度 (mol/L) はいくらか。 最も適当なものを選べ。 0 0.013 ② 0.016 3 0.11 の 0.13 6 0.14 6 0.16 問11 硫酸銅(IⅡ)五水和物 160gの全てを, 60℃の水に溶かして飽和溶液を調製したい。 必要な水の質量(g) はいくらか。最も適当なものを選べ。 ただし, 原子量はH=1.0, 0=16.0 とし, 硫酸銅(IⅡ)(式量160.0) は 60℃の水 100gに 40g溶けるものとする。 68 160 の 199 の 25c

pHがなんなんですか。理解ができません

0 Eaca decheue of 1 on the plt ccale indicatec 10'moe acicre EK p1 4 is cO times mere aeidiz thon phs pt 3 is L000 tames mere acidic than pH 6

負極の求め方なのですが、なぜ0.5なのですか？ またなぜSO4の分子量を使うのですか？ Pbとかのではだめなのですか？ 理解ができないので教えてください

48.0g 前置屯l 鉛蓄電池は,活物質に鉛 Pb と酸化鉛 (IV) PbO2, 電解液に希硫酸を用いる。 放電した鉛蓄電 池の負極を, 外部の直流電源の (①) 極につないで電流を流せば, 鉛蓄電池を充電できる。 充電 により,鉛蓄電池の電解液の希硫酸の密度は (②) くなる。 (1) 放電によって, 1.00mol の電子を取り出したとき, 負極および正極の質量は, 放電前に比べ てそれぞれ何g増加したか。 ただし, 原子量はO=16, S=32, Pb=207 とする。 (2) 文中の()に適する語を書け。 0.500ml 1.00mel Pasta be 2- P6 SD4 → Posle 反応した Pb(負結) ピt100ml 利さしいき、反応た Pb(東) よって Pb→ Pb 5U は0.500ml となる 株分の 504も 0.500ml である 5043分縄 は96.1 4s/md) 2り 5049分建 は 0.500ml x 96g/md /mel よって 4,80g 0した

なぜ答えがbなのか詳しく教えていただきたいです🙇🏻‍♀️ (問題文と選択肢の意味はわかります。)

9. A mixture of 0.50 mol H。(6) and 0.50 mol N。(q) is introduced into a 15.0 liter container having a pinhdle leak at 30°C. After a period of time, which of the following is true? The partial pressure of H, exceeds that of N, in the container. b) The partial pressure of N, exceeds that of H, in the container. C. The partial pressures of the two gases remain equal. d. The partial pressures of both gases increase above their initial values.

なぜ答えがbなのか分かりやすく説明して頂きたいです🙇🏻‍♀️

9. Amixture of 0.50 mol H。(G) and 0.50 mol N,(g) is introduced into a 15.0 liter container having a pinhdle leak at 30℃. After a period of time, which of the following is true? a. The partial pressure of H, exceeds that of N, in the container. b) The partial pressure of N, exceeds that of H, in the container. C. The partial pressures of the two gases remain equal. d. The partial pressures of both gases increase above their initial values.

RHEED法の原理と得られる7つの情報が、この英文に書かれているみたいなのですが、よく分かりません。 分かる方助けてください！🙇‍♂️

INTRODUCTION Reection high-energy electron diHiraction (RHEED) uses a Rnely collimated electron beam with energy of 10-100 keV. The beam irradiates a sample surface with gazing incidence to obtain forward scattered difraction patterms. RHEED enables us to analyze structures of crystal surfaces at atomic levels and also to in situ monitor growth processes of thin films (mo、1988: Ichimiya and Cohen、2004: Peng et al.. 2011). From the arrangement。intensity and profile of the dilraction spots in RHEED patterns as described below in detail、 one can obtain various kinds of information: (1) the periodicity (unit cells) in atomic arrangements. (2) flat- ness of surfaces. (3) sizes of grains/domains of surface structures and microcrystals grown on the surface. (3) epitaxial relation between the grown flms/islands with respect to the substrate. (5) parameters character- izing structural phase transitions. (6) individual atomic positions in the unit cells. and (7) growth styles of thin films and numbers of atomic layers grown. The most important advantages of the method are that it is quite easy to install the RHEED apparatus in Yarious types of vacuum chambers without interfering with other components of apparatuses and to do real- time monitoring during thin-Rlm growths. Because of these advantages.RHEED is nowwidelyusednotonlyin research Iabs of surfaces and thin fims. but also in device production processes in industry Low-energy electron diiraction (LEED、see article Low-ENNERcy ErecroN DirscmoN)。 in which an electron beam of 10-100 eV in energy is irradiated onto a sample surface with nearly normal incidence to obtain back- scattered difraction patterns. is also widely used to analyze the atomic structures of crystal surfaces. Since one has to make the sample face directly to the LEED

訳 お願いします

1was grad to go to school for the first time inalong time. Ithink the stress has improved slightly . It was sad that the sports event was gone , but | thought 1 would be willing to take it forward.