学年

教科

質問の種類

化学 高校生

⑷でなぜ1/5や4/5をかけないといけないんですか?

as (1) RE DOS 計算式 られるが、 量を一定に 式を立て 71 (1) ヘンリーの法則 (2) 酸素:32mL, 窒素:16mL (3) 酸素:窒素=1:2 (4) 酸素:窒素=4:7 (5) 小さくなる (2) ヘンリーの法則とボイルの法則により、水に溶ける酸素と窒素の体 積(それぞれの分圧での体積) は,圧力によらず一定である。よって, 溶けている酸素と窒素の体積は,1.013×10Paのときと変わらず, それぞれ32mLと16mLである。 (3) 物質量 〔mol]= 標準状態での体積 [mL] 22400 mL/mol で水1Lに溶ける酸素と窒素の物質量は, それぞれ 32 AMBIRAFFAX (0₂) 22400 16 22400 mol, F TE mol。酸素と窒素の分圧はそれぞれ1.013×10×Pa, (Hal 4 (SI) 1.013 × 105 × Pa であるから, ヘンリーの法則より,溶解した気体 5 7710 の物質量の比は, (a) 0.8-001x 20.8 32 22400 -mol x- 1 1.013×10³Pa×- 1.013×105 Pa 1 25 O2 の物質量 より,20℃, 1.013×10Pa (d) 201 013980. 4 1.013×10 Pax- 5 16 dommen. ・molx. 22400 ・mol× 28g/mol× 1 5 1.013×105 Pa N2 の物質量 =1:2 0.25 (4) 質量 〔g〕=モル質量 [g/mol]×物質量 〔mol] であるから, 溶解した 気体の質量の比は, [][][][\lom] 32g/mol× 32 22400 O2 の質量 (代) OH中 1.IX lom\g £8 21.501-20201 Tom 3.1 = 4:7 (5) 一般に,気体の溶解度は,温度が低くなるほど大きくなる。これは, 温度が上がると熱運動が激しくなり, 気体分子が溶媒分子との分子 間力を振り切って,外へ飛び出しやすくなるからである。DIXCES 02: Nz 1:4 Og0.S HOS () 1 比の値を求めるので, 1つ1つの具体的な数値 を計算せずに,約分する 1mol比Holm とよい。 4 22400 5 N2 の質量 56ad01408.$ £180.ES () {\om の MF 3673 (om 01.0 Tom 020.0 (loa) O

回答募集中 回答数: 0
化学 高校生

RHEED法の原理と得られる7つの情報が、この英文に書かれているみたいなのですが、よく分かりません。 分かる方助けてください!🙇‍♂️

INTRODUCTION Reection high-energy electron diHiraction (RHEED) uses a Rnely collimated electron beam with energy of 10-100 keV. The beam irradiates a sample surface with gazing incidence to obtain forward scattered difraction patterms. RHEED enables us to analyze structures of crystal surfaces at atomic levels and also to in situ monitor growth processes of thin films (mo、1988: Ichimiya and Cohen、2004: Peng et al.. 2011). From the arrangement。intensity and profile of the dilraction spots in RHEED patterns as described below in detail、 one can obtain various kinds of information: (1) the periodicity (unit cells) in atomic arrangements. (2) flat- ness of surfaces. (3) sizes of grains/domains of surface structures and microcrystals grown on the surface. (3) epitaxial relation between the grown flms/islands with respect to the substrate. (5) parameters character- izing structural phase transitions. (6) individual atomic positions in the unit cells. and (7) growth styles of thin films and numbers of atomic layers grown. The most important advantages of the method are that it is quite easy to install the RHEED apparatus in Yarious types of vacuum chambers without interfering with other components of apparatuses and to do real- time monitoring during thin-Rlm growths. Because of these advantages.RHEED is nowwidelyusednotonlyin research Iabs of surfaces and thin fims. but also in device production processes in industry Low-energy electron diiraction (LEED、see article Low-ENNERcy ErecroN DirscmoN)。 in which an electron beam of 10-100 eV in energy is irradiated onto a sample surface with nearly normal incidence to obtain back- scattered difraction patterns. is also widely used to analyze the atomic structures of crystal surfaces. Since one has to make the sample face directly to the LEED

未解決 回答数: 1