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化学 高校生

黄色で縫ってある部分についてです ①なぜメチルブタンは2-メチルブタンとしなくて良いのか②なぜプロペンを1-プロペンとしないのか を教えていただきたいです  

:One Point 有機化合物の名称 ①鎖式飽和炭化水素 15.HD-10₂HO MADE 合 DHD-HD (a) アルカン CmH2n+2 は, 「数詞」 + 「アン (-ane) 」 で表す。 数詞 HO 1 モノ mono 2 ジ di [例] C5H12 ペンタン pentane, C6H14 ヘキサン hexane 炭素数が1~4のアルカンは慣用名で表す。 3 トリ tri ( 4 CH メタン, C2H6 エタン, C3H8 プロパン, CaHio ブタン テトラ tetra 5 ペンタ penta (b) 枝分かれした構造は, 最も長い部分 (主鎖) の置換体として表す。 例 CH3-CH-CH2-CH3 メチルブタン 6 ヘキサ hexa 7 ヘプタ hepta CH3 (2-メチルブタンとする必要はない) 8 オクタ octa 3 4 5 ナ nona 6 CH3-CH-CH2-CH-CH2-CH3 2,4-ジメチルヘキサン OHO HO CH3 [HCCH3 HO 側鎖の位置数 名称 主鎖の名称 ②鎖式不飽和炭化水素 (a) アルケン CnH2n は, アルカンの語尾を 「エン (-ene)」 に変える。 エテン ethene (慣用名:エチレン) [例 CH2CH2 9 10 デカ UHデカ Modeca HO プロペン propene (慣用名 : プロピレン) IDHD-HO CH2=CH-CH3 CH2=CH-CH2-CH3 1-ブテン 1-butene(1-で二重結合の位置を示す) (b) アルキン CH2n-2 は, アルカンの語尾を 「イン (-yne) 」 に変える。 例 CH≡CH エチン ethyne (慣用名:アセチレン) +

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化学 高校生

RHEED法の原理と得られる7つの情報が、この英文に書かれているみたいなのですが、よく分かりません。 分かる方助けてください!🙇‍♂️

INTRODUCTION Reection high-energy electron diHiraction (RHEED) uses a Rnely collimated electron beam with energy of 10-100 keV. The beam irradiates a sample surface with gazing incidence to obtain forward scattered difraction patterms. RHEED enables us to analyze structures of crystal surfaces at atomic levels and also to in situ monitor growth processes of thin films (mo、1988: Ichimiya and Cohen、2004: Peng et al.. 2011). From the arrangement。intensity and profile of the dilraction spots in RHEED patterns as described below in detail、 one can obtain various kinds of information: (1) the periodicity (unit cells) in atomic arrangements. (2) flat- ness of surfaces. (3) sizes of grains/domains of surface structures and microcrystals grown on the surface. (3) epitaxial relation between the grown flms/islands with respect to the substrate. (5) parameters character- izing structural phase transitions. (6) individual atomic positions in the unit cells. and (7) growth styles of thin films and numbers of atomic layers grown. The most important advantages of the method are that it is quite easy to install the RHEED apparatus in Yarious types of vacuum chambers without interfering with other components of apparatuses and to do real- time monitoring during thin-Rlm growths. Because of these advantages.RHEED is nowwidelyusednotonlyin research Iabs of surfaces and thin fims. but also in device production processes in industry Low-energy electron diiraction (LEED、see article Low-ENNERcy ErecroN DirscmoN)。 in which an electron beam of 10-100 eV in energy is irradiated onto a sample surface with nearly normal incidence to obtain back- scattered difraction patterns. is also widely used to analyze the atomic structures of crystal surfaces. Since one has to make the sample face directly to the LEED

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