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化学 高校生

酸化還元反応を化学反応式で表す問題なのですが、マーカーを引いているところはなんで両辺に加えるのか分かりません。なぜこれらの物質なのかもわかりません。(3)はなにも加えない理由も教えてください。 (4)は特に分かりません。誰かお願いします助けてください😭

1 1 SO0。填Cuュー SO。+ 2H。O十CuSO。 2HNO。+ Ag 一 NO。+ HO AgNO。 ⑬) 2H。S+ SO。 一 3S + 2HO (⑭) KaCrO, + H。SO。+ 38O。一> K。SO。填Cr(SO)。キHz 解 (1) H。SO。が酸化剤Cu が違元剤としてはたらく。 H。SO。填2HT+ 26一 SO。填2HO …① ーー Cu 十 2e~ …② ①, より e ~を消去する。(①+⑤②) H。SO。寺2HT 上Cu一 SO。十 2HIOすCT 両辺に SOを加える。 2H。SO。十 Cu 一> SO。二 2H。O CuSO。 (2) HNO。 が酸化剤. Ag が選元剤としてはたらく。 (濃)HNO。+キHe-ーー NO。填HO …① Ag一> Ag「十e~ …② ①②よょりe を消去(④+②) HNO。寺時Ag一> NO。填HO十Ag" 両辺にINO電を加える。 2HNO。填Ag一 NO。寺HO十AgNO。 (3) SO。 が酸化剤, H。S が還元剤としてはたらく。 HS 一> S寺2HT十2e~ …① SO。二4HT二4e 一8寺2HO …② ①②よりe を消去(①X2+⑨⑧) 2H5すS0。寺4H"ーー 28十4HT 8+2H。O 2HS + SO。 一> 3S+ 2HO (り keCe0z が隊化剤80。が慢元電としてはたらく9。 . 5 0 十14H二69一っ2CPt+7HLO ww① 0†2HO 一っ SO 十4HT + 2 …⑨ O ⑩ SO。 は強い恒元剤でが が, HLS と反応する5 酸化剤としてはたらく〈、 SO。寺4e~+4HT 0

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化学 高校生

RHEED法の原理と得られる7つの情報が、この英文に書かれているみたいなのですが、よく分かりません。 分かる方助けてください!🙇‍♂️

INTRODUCTION Reection high-energy electron diHiraction (RHEED) uses a Rnely collimated electron beam with energy of 10-100 keV. The beam irradiates a sample surface with gazing incidence to obtain forward scattered difraction patterms. RHEED enables us to analyze structures of crystal surfaces at atomic levels and also to in situ monitor growth processes of thin films (mo、1988: Ichimiya and Cohen、2004: Peng et al.. 2011). From the arrangement。intensity and profile of the dilraction spots in RHEED patterns as described below in detail、 one can obtain various kinds of information: (1) the periodicity (unit cells) in atomic arrangements. (2) flat- ness of surfaces. (3) sizes of grains/domains of surface structures and microcrystals grown on the surface. (3) epitaxial relation between the grown flms/islands with respect to the substrate. (5) parameters character- izing structural phase transitions. (6) individual atomic positions in the unit cells. and (7) growth styles of thin films and numbers of atomic layers grown. The most important advantages of the method are that it is quite easy to install the RHEED apparatus in Yarious types of vacuum chambers without interfering with other components of apparatuses and to do real- time monitoring during thin-Rlm growths. Because of these advantages.RHEED is nowwidelyusednotonlyin research Iabs of surfaces and thin fims. but also in device production processes in industry Low-energy electron diiraction (LEED、see article Low-ENNERcy ErecroN DirscmoN)。 in which an electron beam of 10-100 eV in energy is irradiated onto a sample surface with nearly normal incidence to obtain back- scattered difraction patterns. is also widely used to analyze the atomic structures of crystal surfaces. Since one has to make the sample face directly to the LEED

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